연구보고서
| 보고서명 | 초고집적 반도체용 CMP 장비 성능 항상성 유지를 위한 Post-CMP 세정 브러쉬 모듈 개발 |
| 연구책임자 | 김형재 |
| 발행년도 | 2020 |
| 내 용 | ? 세정능력 항상성 유지를 위한 브러쉬 모듈의 Self-Monitoring 구조 개발 - 브러쉬의 Tilt/Height/Torque/Gap Grip Force등의 공정 핵심영향 인자를 실시간 모니터링 하고 실시간 판단을 구현하는 기술 개발 ? 연마율 항상성 유지를 위한 브러쉬 모듈 자세 능동 제어시스템 개발 - 모니터링 된 브러쉬의 신호를 기반으로 브러쉬 모듈 구조 자세의 능동적 제어를 통해 최적의 세정효율을 브러쉬 수명기간 중 항상 유지 |
| 접수일 | 2023-01-10 |
| 첨부파일 |
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