연구보고서
| 보고서명 | 미세패턴/정밀중첩 패터닝이 가능한 롤투롤 연속 인쇄시스템 기술 개발 연차2차년도보고서 |
| 연구책임자 | 황준영 |
| 발행년도 | 2017 |
| 내 용 | 1. R2R 대응 레이저 리페어 장비 제작 기술 개발 - 기판 폭 300 mm 대응 - 스캔 속도 1 m/min 이상 - 공정 해상도 10 ㎛ 이하 - 표적 정밀도 10 ㎛ 이하 2 R2R 대응 EHD 리페어 장비 제작 기술 개발 - 기판 폭 300 mm 대응 - 헤드 이송 속도 1 m/min 이상 - 인쇄 선폭 10 ㎛ 이하 - 정렬 정밀도 10 ㎛ 이하 |
| 접수일 | 2023-02-08 |
| 첨부파일 |
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| 구분 | 내용 |
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